儀器簡介

紫外臭氧清洗機是一款用于無機基材（比如：石英、硅片、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁等）表面有機污染物去除的表面清洗設(shè)備。

低壓紫外汞燈能夠同時發(fā)射波長254nm和185nm的紫外光，在這兩種短波紫外光的照射下，活化有機物分子與活性氧原子發(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體逸出樣品表面，從而徹底清除粘附在樣品表面上的有機污染物。

應(yīng)用領(lǐng)域

1、PCBA（印制電路板）生產(chǎn)中進行光清洗后，可以提高導(dǎo)線焊接時熔焊的接觸面積，增加連接強度，進而提高印制電路板的質(zhì)量；

2、LCD、OLED生產(chǎn)中進行光清洗后，可以提高基體表面潤濕性，進而增強基體表面的粘合力；

3、集成電路領(lǐng)域，光清洗可以實現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷；

4、可用于提高半導(dǎo)體粘合力、清洗彩色濾光片表面有機污染物、提高光學(xué)玻璃鍍 膜質(zhì)量等場景；

5、對清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余光刻膠、環(huán)氧樹脂、焊劑；以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機污染物，光清洗都是十分有效的方法。

功能特點

1.1采用5寸彩色觸摸屏控制，可自主設(shè)定運行時間、加熱溫度、氣路流量等流程參數(shù)；

1.2加熱、升降一體式樣品臺，升降行程50mm, 便于樣品與UV燈間距的調(diào)整；

1.3樣品臺恒溫控制，智能PID溫度調(diào)節(jié)，設(shè)置范圍RT~200℃, 控溫精度±1℃；

1.4流量、加熱、UV燈分別自動單獨控制啟閉，處理過程中可手動中斷；

1.5組合式處理方式，可自由選擇：是否啟用樣品臺加熱功能、打開供氧氣路；

1.6自動儲存清洗參數(shù)設(shè)置，并生成歷史記錄，避免實驗數(shù)據(jù)遺忘；

1.7安全可靠，設(shè)備運行過程中，清洗倉倉蓋打開時自動關(guān)閉UV燈，并彈窗提示，避免紫外線傷害；

1.8標配流量數(shù)字化顯示(可接入氧氣或臭氧),可調(diào)節(jié)氣路供氣流量；

1.9上置式樣品臺及上翻式開蓋設(shè)計，取放樣品方便，操作簡單快捷；

1.10波長254nm和185nm雙波UV燈源，燈管壽命約為8000小時，配備UV反光罩使樣品照射均勻化；

1.11一鍵化操作，減少工作強度。

技術(shù)參數(shù)